标准号：GB/T 25188-2010

中文标准名称：硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
英文标准名称：Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy
标准状态： 现行
中国标准分类号（CCS）
G04
国际标准分类号（ICS）
71.040.40
发布日期
2010-09-26
实施日期
2011-08-01
主管部门
国家标准委
归口部门
国家标准委
发布单位
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
备注
2011-08-01实施
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