标准号:GB/T 19444-2004 |
中文标准名称:硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法 | |
英文标准名称:Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction | |
标准状态: 现行 | |
版权所有:国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 京ICP备18022388号-1 网站技术支持:国家市场监督管理总局国家标准技术审评中心 支持电话:010-82261085 |
![]() ![]() |