标准号：GB/T 14849.4-2014 |
| 中文标准名称：工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | |
| 英文标准名称：Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method | |
| 标准状态： 现行 | |
全国标准信息公共服务平台
