标准号:GB/T 43894.2-2026

中文标准名称:半导体晶片近边缘几何形态评价 第2部分:边缘卷曲法(ROA)
英文标准名称:Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 2: Roll-off amount(ROA)
标准状态: 现行
中国标准分类号(CCS)
H21
国际标准分类号(ICS)
77.040
发布日期
2026-01-28
实施日期
2026-08-01
主管部门
国家标准委
归口部门
国家标准委
发布单位
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
备注